1. Câmara de deposição por técnicas assistidas por plasma: erosão catódica (dc- e rf-magnetron sputtering) e Deposição Química Assistida por Plasmas (PECVD).
2. Câmara de deposição por técnicas físicas (PVD): evaporação térmica e por feixe de elétrons.
3. Sistema de crescimento de nanotubos de carbono por spray pirólise
4. Sistema de crescimento de nanotubos por HVCVD (high-vacuum CVD)
5. Sistema de crescimento de grafeno por CVD (Chemical Vapor Deposition).
6. Forno até 900oC para tratamento térmico em alto-vácuo ou em atmosferas controladas.
7. Politrizes para preparação de superfícieis metálicas.
8. Ponta de ultra-som para dispersão de sólidos
9. Ultra-centrífuga para dispersão de nanotubos
10. Balança analítica de precisão Shimadzu.
11. Capela

Para a caracterização de amostras o Laboratório está equipado com:

1. Nanoindentador TriboIndenter da Hysitron.
2. Sistema micrométrico de desgaste por esfera girante CALOWEAR da CSM.
3. Goniômetro para medida de ângulo de contacto da Rame-Hart.
4. Microscópio eletrônico de varredura FEG (Field emission gun) com EDS e STEM da JEOL modelo JSM-6701F
5. Microscópios óticos direto (ZEISS AXIO) e invertido (Olympus)
6 Microscópio de Tunelamento, SPM UHV, Omicron
7. Microscópio de força atômica e espectrômetro Raman acoplados – Sistema NTegra Spectra da NT-MDT
8. Espectrômetro Infra-Vermelho Brucker modelo ALPHA FTIR
9. Perfilometro Brucker Dektak XT
10. Câmara para análise de superfícies com técnicas XPS/AES/LEIS e UPS da VG Thermo equipado com analisador de elétrons semi-esférico com raio de 110 cm Alpha 110