Câmara de deposição por
técnicas assistidas por plasma: erosão catódica
(dc- e rf-magnetron sputtering) e Deposição Química
Assistida por Plasmas (PECVD).
Câmara de deposição por técnicas físicas
(PVD): evaporação térmica e por feixe de elétrons.
Sistema de arco catódico para produção de fullerenos.
Forno até 900oC para tratamento térmico em alto-vácuo
ou em atmosferas controladas.
Politrizes para preparação de superfícies metálicas.
Nanoindentador UBI da Hysitron.
Sistema de crescimento de nanotubos de carbono por spray pirolise e CVD.