INFRAESTRUTURA

    Câmara de deposição por técnicas assistidas por plasma: erosão catódica (dc- e rf-magnetron sputtering) e Deposição Química Assistida por Plasmas (PECVD).

    Câmara de deposição por técnicas físicas (PVD): evaporação térmica e por feixe de elétrons.

    Sistema de arco catódico para produção de fullerenos.

    Forno até 900oC para tratamento térmico em alto-vácuo ou em atmosferas controladas.

    Politrizes para preparação de superfícies metálicas.

    Nanoindentador UBI da Hysitron.

    Sistema de crescimento de nanotubos de carbono por spray pirolise e CVD.